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    原位光電分析測試系統(tǒng)

    更新時間:2018-11-10點擊次數(shù):3116

          原位光電分析測試系統(tǒng)以掃描電子顯微鏡為基礎,集成陰極熒光譜、微納機械臂、外部電學測量等功能,構建了一個直觀、實時和原位地研究先進功能材料和器件物理性能的系統(tǒng),不僅可以實現(xiàn)對納米材料或器件的原位發(fā)光的檢測和電學物性的測試、納米尺度的操作和控制、以及特定納米光電子器件的構筑,還可以實現(xiàn)實時原位研究微納器件材料光電轉換過程的動態(tài)信息。該系統(tǒng)主要由7個功能模塊組成,其型號及生產(chǎn)廠家如下:
    (1)場發(fā)射掃描電子顯微鏡,;
    (2)陰極熒光光譜儀,;
    (3)MM3A-EM電鏡微納操縱儀,德國Kleindiek Nanotechnik;
    (4)半導體特性分析儀, 脈沖碼型發(fā)生器, 示波器,;
    (5)s納米圖形發(fā)生器;
    (6)電鏡冷凍臺,
    (7)激光器
    二、 主要參數(shù)
    (1)場發(fā)射掃描電子顯微鏡
    具有高真空功能、低真空功能和環(huán)境真空功能(需要更換部件),大束流200n A并且連續(xù)可調,典型換樣時間:高真空模式≤150秒;低真空及環(huán)境真空模式≤270秒。高真空30kV二次電子像分辨率:30kV時1.0 nm。
    (2)陰極熒光光譜儀
    光譜范圍160nm-1700nm;光譜分辨率0.07nm (1200gr/mm刻線, 400nm激發(fā))
    (3)電鏡微納操縱儀
    納米和微米級移動和厘米級的工作范圍,XY大不小于50mm, Z大12mm,XY大速率10mm/s, z軸大速率2 mm/s,精度指標XY≤5nm, Z≤0.5nm, 漂移量<1nm /min。
    (4)半導體特性分析儀/脈沖碼型發(fā)生器/示波器
    直流測試:4個SMU,電壓測量范圍±100V, 電壓測量小分辨率0.5μV,電流測量范圍±100mA,電流測量小分辨率0.1fA;電容CV測試:頻率范圍1KHz~5MHz,頻率精度±0.008%;脈沖測量小脈寬10ns,波形電平100 mV 到20V。
    (5)納米圖形發(fā)生器
    具有DXF/DWG讀/寫轉換- GDSII/CIF圖形導入功能,同步掃描頻率為5 MHz,兼容6 MHz,電子束停留時間小增量(定時精度)為0.5納秒, 矢量掃描刻寫方式。
    (6)電鏡冷凍臺
    冷臺溫度可控范圍低至-190℃,溫度穩(wěn)定性優(yōu)于±0.5°C,冷阱溫度為-190℃。
    (7)激光器
    工作頻率10Hz,能量穩(wěn)定性< ±10%,指向穩(wěn)定性<±100微弧度,帶光學參量控制器(opo),opo控制輸出在192-2750nm波長范圍內。

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